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制樣/消解設(shè)備
制樣設(shè)備主要包括切割機(jī)、拋光機(jī)、預(yù)磨機(jī)、磨拋機(jī)、鑲嵌機(jī)等。拋光機(jī)、鑲嵌機(jī)、切割機(jī)等設(shè)備質(zhì)量可靠，操作安全，可以提高制樣效率和質(zhì)量，減少試樣廢品率，從而降低成本，提高經(jīng)濟(jì)效益，獲得樣品質(zhì)量的高度一致性。消解設(shè)備是一種常用的樣品前處理設(shè)備。主要包括等離子體表面處理儀、微波消解儀、離子濺射儀、電熱消解儀、消化爐、電熱板等其它消解設(shè)備。 -
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電熱消解儀
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離子濺射儀
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組織處理儀
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電子束刻蝕系統(tǒng)
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Oxford System 100 等離子刻蝕與沉積設(shè)備
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紅外加熱消解系統(tǒng)/紅外消解儀
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離子束刻蝕系統(tǒng)
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磁控濺射儀/磁控濺射鍍膜儀
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氣相沉積系統(tǒng)
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微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
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微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-MPCVD
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低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(LPCVD)
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快速熱化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(RTCVD)
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YES-EcoCoat硅烷單層氣相沉積系統(tǒng)
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消化爐
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分子束外延系統(tǒng)
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激光濺射沉積系統(tǒng)
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美國(guó)Neocera PLD 脈沖激光沉積系統(tǒng) P180 & PED 脈沖電子束沉積系統(tǒng) PED-18
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Neocera 脈沖激光沉積系統(tǒng)Pioneer 180-2-PLD
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大尺寸脈沖激光沉積系統(tǒng) Large-Area PLD Systems
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脈沖激光沉積系統(tǒng) Pioneer 180 PLD System
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脈沖激光沉積系統(tǒng) Pioneer 120 PLD System
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離子輔助脈沖激光沉積系統(tǒng) Ion-Assisted PLD System
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原子層沉積系統(tǒng)
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勻膠機(jī)
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石墨消解儀
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- LY-201G-12石墨消解儀
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- 石墨消解儀
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- 石墨消解儀樣本
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其它制樣消解設(shè)備
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- 射頻電子學(xué)設(shè)備
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